안녕하세요^^, 나노시대를 이끌어가는 e-beam 전문기업 쎄크입니다.
주사전자현미경(SEM) 이미지를 생성할 때 제일 먼저 전자 빔으로 확대
관찰할 영역을 스캔하게 되는데요! 주사전자현미경은 전자빔이 샘플의 표면에
주사하면서 샘플과의 상호작용에 의해 발생된 SE(Secondary Electron)를
이용해서 샘플의 표면을 관찰하는 장비입니다.
그러므로 주사전자 현미경에서 전자빔은 절때 빠질 수 없는데요!
오늘은 전자 빔 주사 원리와 전자, 시료간의 작용에 대해 알려드리려 합니다.
전자 빔 주사 원리
• WD(Working Distance)가 작고 큰 두가지 경우의 focusing 조건
• 동일한 집속 렌즈와 어퍼쳐에서 렌즈에서 샘플이 멀어질수록
- WD값 S가 증가합니다.
- 전자 빔 집속률이 줄어듭니다.
- Spot 크기가 커집니다.
- 발산각도 a가 줄어듭니다.
• 집속률이 줄어드는 현상은 렌즈에 전류가 줄어들 때 발생하며
초점거리 f를 증대시킵니다.
• 시료의 해상도는 WD가 커지면서 Spot Size 가 커지는 관계로 저하됩니다.
• WD가 늘어나면 발산 각이 적어지므로 초점 심도는 깊어집니다.
전자, 시료간의 작용
● 입사 빔이 샘플에 충돌하면 광 양자와 다양한 전자 신호들이 검출됩니다.
- 엑스레이 두께, 성분 정보
- 후방 산란 전자 : 원자번호, 정밀 이미지
- 음극 냉광 : 전기적인 정보
- Auger 전자 : 표면의 정밀 성분 정보
- 2차전자 : 정밀 이미지
- 시편 전류 : 전기적인 정보
● SEM에 위의 모든 신호들이 나타나지만 주로 SE, BSE, 엑스레이만을
선별해서 사용
지금까지 쎄크의 Mini-SEM 전자 빔 주사 원리와 전자, 시료간의 작용에 대해
알아봤는데요~
더 자세한 내용은 쎄크 홈페이지에 접속하면 확인하실 수 있답니다.
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